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市場(chǎng)主要磁懸浮分子泵生產(chǎn)商包括真空、Atlas(Edwards&Leybold)、大阪真空機器制造所、和等，按收入計，2021年大廠(chǎng)商占有大約%的市場(chǎng)份額。從產(chǎn)品泵速方面來(lái)看，低于1500升/秒占有重要地位，按收入計，2021年市場(chǎng)份額為%，預計2028年份額將達到%。同時(shí)就應用來(lái)看，半導體行業(yè)在2028年份額大約是%，未來(lái)幾年CAGR大約為%。

根據不同產(chǎn)品泵速,磁懸浮分子泵細分為:

 低于1500升/秒

1500到3000升/秒

 高于3000升/秒

根據不同應用，本文重點(diǎn)關(guān)注以下領(lǐng)域：

 半導體行業(yè)

 光伏行業(yè)

 鍍膜行業(yè)

 其他

渦輪分子泵的工作特性主要表現在以下幾個(gè)方面：

（1）抽速與轉速的關(guān)系抽速與轉速之間的關(guān)系大致為S（4-67）。其中：g是由幾何形狀決定的常數；u是活動(dòng)刀片的轉速。隨著(zhù)速度的增加，泵送速度比直線(xiàn)略慢。這可以通過(guò)在抽速較高時(shí)對進(jìn)氣管電導率的限制來(lái)解釋。根據（4-66），隨著(zhù)S1的增加，S將偏離直線(xiàn)。

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視頻作者：廣州潽拓光電科技有限公司

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鑒定充分肯定了公司的技術(shù)研發(fā)、制造工藝以及檢測能力，公司在科技部02專(zhuān)項“極大規模集成電路制造裝備及成套工藝”——《磁懸浮分子泵系列產(chǎn)品開(kāi)發(fā)與產(chǎn)業(yè)化》重大專(zhuān)項研制成果基礎上，成功研制新一代智能化、一體化的磁懸浮分子泵。經(jīng)過(guò)質(zhì)詢(xún)和討論，鑒定很終鑒定意見(jiàn)為：公司研制的磁懸浮分子泵系列產(chǎn)品為國內首臺（套），具有自主知識產(chǎn)權，主要性能指標達到水平，取得了顯著(zhù)的經(jīng)濟及社會(huì )效益，建議進(jìn)一步推廣應用。

作為中國真空技術(shù)者，公司始終以“創(chuàng )新科學(xué)儀器，發(fā)展企業(yè)”為使命，以電子光學(xué)和真空技術(shù)，打造科學(xué)儀器設備及裝備制造國家隊，在“十四五”規劃的新征程，立足新發(fā)展階段、堅持新發(fā)展理念、構建新發(fā)展格局，為強化國家戰略科技力量、實(shí)現科技自立自強做出新的貢獻。

操作注意事項不能在前級泵工作時(shí)（前級管道接通）和真空室處于真空狀態(tài)時(shí)將渦輪分子泵停掉，否則將會(huì )使油蒸汽迅速從前級管路返流到泵的清潔端。分子泵系統在停機充干燥氣體前，一定要先將分子泵冷卻水關(guān)閉，且要從泵的高真空端充氣。決不能從泵的前級管路進(jìn)行充氣。選擇抽氣系統前級泵的大小時(shí)，應使渦輪分子泵的前級保持在分子流狀態(tài)下。不能讓渦輪分子泵在低于額定工作轉速下運轉。

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通用的沉積技術(shù)有化學(xué)氣相淀積（CVD）、蒸發(fā)和濺射PVD。一般來(lái)說(shuō)，其中還要夾雜低溫（≤500℃）退火工藝等熱處理工藝，用以增進(jìn)金屬層和半導體之間的低電阻接觸、消除內應力等。設備運行過(guò)程中需要高潔凈的真空環(huán)境，一般采用以磁懸浮分子泵為主的無(wú)油真空系統。

刻蝕是用化學(xué)或物理方法有選擇地從硅片表面去除不需要材料的過(guò)程?？涛g的基本目標是在涂膠的硅片上正確地掩膜圖形?，F代化的干法刻蝕設備包括復雜的機械、電氣和真空系統，同時(shí)配有自動(dòng)化的刻蝕終點(diǎn)檢測和控制裝置?？涛g應用工況復雜，清潔性差，充入特種氣體種類(lèi)繁多，因此需要特殊處理的干泵和磁懸浮分子泵。

離子注入設備：離子注入是指在真空環(huán)境下，當離子束射向固體材料時(shí)，受到固體材料的抵抗而速度慢慢減低下來(lái)，并很終停留在固體材料中的現象。離子注入是半導體表面附近區域進(jìn)行摻雜的主要技術(shù)，其目的是改變半導體的載流子濃度和導電類(lèi)型。離子注入機是集成電路制造工序中的關(guān)鍵設備，需要高清潔的真空環(huán)境，以保證離子摻雜濃度和劑量的準確性。

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